Ближайший город: Волгоград | Тел: +7 (8442) 45-94-42 | Email: ikf@pro-solution.ru

Приставки для пластин кремния ПП200, ПО200

Приставки для пластин кремния ПП200, ПО200
Приставки для пластин кремния ПП200, ПО200

Цена: по запросу

Назначение


Приставки для пластин кремния ПП200, ПО200 предназначены для контроля параметров полупроводниковых пластин диаметром до 200 мм в режиме пропускания или отражения.

Приставки для пластин кремния ПП200, ПО200 контролируются высокочувствительным бесконтактным методом в заданных оператором точках.

Приставки для пластин кремния ПП200, ПО200 для получения и обработки данных использую специализированную программу SemiSpec.

Приставки для пластин кремния ПП200, ПО200. Технические характеристики


Приставки для пластин кремния ПП200, ПО200

Приставки предназначены для контроля параметров полупроводниковых пластин диаметром до 200 мм в режиме пропускания или отражения. Параметры пластин контролируются высокочувствительным бесконтактным методом в заданных оператором точках. Для измерений в режиме пропускания используется приставка ПП200, в режиме отражения – приставка зеркального отражения с углом падения луча 10º — ПО200.

Основные контролируемые параметры:

  • концентрация междуузельного кислорода (толщина пластин 0,4–2,0 мм) в пределах (5×1015–2×1018)±5×1015 см-3 (SEMI MF1188);
  • концентрация углерода замещения (толщина пластин 0,4–2,0 мм) в пределах: (1016–5×1017)±1016 см-3 (SEMI MF1391);
  • радиальная неоднородность распределения кислорода в кремниевых пластинах (SEMI MF951);
  • толщина эпитаксиальных слоев кремниевых структур типа n-n+ и p-p+ в пределах (0,5–10,0)±0,1 мкм, (10–200)±1% мкм (SEMI MF95);
  • толщина эпитаксиальных слоев кремния в структурах КНС в пределах (0,1–10,0)±1% мкм;
  • концентрация фосфора в слоях ФСС и бора/фосфора в слоях БФСС в пределах (1–10)±0,2 % вес.
  • В качестве держателей пластин в приставке используются съемные крепления-кольца, в которых пластины фиксируются с помощью дюралевых зажимов, не повреждающих пластину.
  • Измерения проводятся в ручном режиме. Часть приставки, на которой закреплена пластина, может двигаться относительно неподвижного основания, позволяя выбирать на образце точки для исследования. Пластину можно вращать вокруг оси и перемещать плоско-параллельно. Для контроля этого перемещения обе приставки снабжены шкалами, отградуированными соответственно в градусах и в мм.
  • Для получения и обработки данных используется специализированная программа SemiSpec.
Заказать звонок
+
Жду звонка!
адрес для заявок: ikf@pro-solution.ru